西实显示取得偏压装置及基片处理设备专利，高压清洗空调内机视频教程

点击次数：更新时间： 2025-06-24 作者：新闻动态

金融界2025年4月16日消息，国家知识产权局信息显示，西实显示高新材料（沈阳）有限公司取得一项名为“偏压装置及基片处理设备”的专利，授权公告号CN 115376974 B，申请日期为2022年9月。

天眼查资料显示，西实显示高新材料（沈阳）有限公司，成立于2020年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，西实显示高新材料（沈阳）有限公司共对外投资了1家企业，财产线条，此外企业还拥有行政许可1个。